고기밀성, 고균일도, 고내식성을 모두 만족시키는 코팅 기술은 첨단 반도체 공정에서 반드시 요구되는 기술적 조건입니다. 특히 고집적화가 가속화되고 있는 오늘날, 복잡한 장비 구조 내부까지 안정적으로 박막을 증착할 수 있는 기술이 점점 더 중요해지고 있습니다.바로 이러한 니즈에 대응하기 위한 대표적인 박막 기술이 ALD Coating입니다.ALD(Atomic Layer Deposition, 원자층 증착) Coating은 원자층 수준으로 증착되어 균일하고 조밀한 박막을 형성할 수 있는 초정밀 박막 형성 기술입니다. 두 가지 이상의 반응성 전구체(precursor)를 교차 주입하여 기판 표면에서만 반응이 일어나는 ‘자가제한 반응(self-limiting reaction)’을 이용합니다.ALD Coating의 주..

반도체 PVD(Physical Vapor Deposition) 공정은 수십 나노미터 단위의 박막을 정밀하게 증착하는 고난이도 공정으로, 물리적, 화학적 특성이 안정적으로 유지되어야 합니다. 이 과정에서 타겟 물질(Target Material)은 증착 과정에서 챔버 내부에 비산되어 다양한 부품 표면에 불균일하게 재부착되거나, 표면 침식 및 오염의 원인이 될 수 있습니다. 이러한 현상은 장비의 유지 주기를 단축시키고 공정 수율 저하로 이어질 수 있기 때문에, 부품 표면의 보호와 안정화는 반도체 제조의 품질과 생산성에 직결되는 핵심 요소로 주목받고 있습니다.이러한 까다로운 조건을 효과적으로 제어하기 위해 도입된 대표적인 기술이 바로 Arc Coating입니다.■ Arc Coating이란?Arc Coating은..

반도체 산업의 고도화에 따라, 장비 부품에 요구되는 신뢰성과 내환경성 수준도 점점 높아지고 있습니다. 반도체 산업 내에서 알루미늄 계열 소재는 우수한 경량성, 뛰어난 열전도성, 우수한 가공성을 바탕으로 다양한 장비 부품에 폭넓게 활용되고 있지만, 플라즈마 환경이나 화학물질에 대한 내성이 부족하다는 근본적인 한계를 지니고 있습니다.특히 극한의 온도와 화학 반응이 수반되는 반도체 공정 환경에서는 알루미늄의 표면이 쉽게 손상되어 장비 성능 저하나 부품 수명 단축으로 이어질 수 있습니다. 이에 따라 알루미늄의 본래 특성은 유지하면서도, 내식성·경도·절연성과 같은 기능적 특성을 강화할 수 있는 표면 처리 기술에 대한 수요가 꾸준히 증가하고 있습니다.이번 글에서는 이러한 요구에 효과적으로 대응하는 대표적인 기술인 ..