■ Rapid Growth of the Korean Semiconductor Industry Since the 1980s, Korea has fostered the semiconductor industry as a national strategic sector.In memory semiconductors, Samsung Electronics and SK hynix have led the global market, establishing semiconductors as Korea’s top export item and a key driver of the national economy. Amid this growth, specialized service providers like KoMiCo, offeri..

■ 한국 반도체 산업의 비약적 성장 한국은 1980년대 이후 반도체 산업을 국가 전략 산업으로 집중 육성해왔습니다.메모리 반도체 분야에서는 삼성전자와 SK하이닉스가 세계 시장을 선도하면서, 반도체는 우리나라 수출 1위 품목이자 국가 경제의 핵심 동력으로 자리 잡았습니다. 이러한 성장의 흐름 속에서 코미코와 같은 전문 반도체 장비부품 세정/코팅 기술 서비스 기업이 등장해 산업의 안정적인 발전을 뒷받침하게 되었습니다.■ 반도체 장비 부품 세정기술 서비스가 필요한 이유 반도체 제조 공정에서 장비의 안정성과 수율을 유지하기 위해서는 정기적인 Chamber PM(Preventive Maintenance)이 필수입니다. 공정 중 발생하는 파티클과 부산물이 챔버 내부에 쌓이게 되어 이를 제대로 관리하지 않으면 오염물..

지난 2025년 9월 10일부터 12일까지 대만 타이베이 난강 전시 센터에서 열린 SEMICON TAIWAN 2025에 코미코가 참가했습니다. SEMICON TAIWAN은 대만을 대표하는 글로벌 반도체 행사로, 금년도 행사는 역대 최대 규모인 4,100개 부스와 1,200개 이상의 선도 기업이 함께했으며, 10만 명이 넘는 방문객이 몰리며 전 세계 반도체 업계의 글로벌 리더, 혁신 기업이 모여 미래 전략을 공유하는 자리였습니다.■ 코미코의 전시 참여 코미코는 SEMICON TAIWAN 2025에서 MiCo그룹 계열사들과 함께 공동 부스를 운영하며, 반도체 장비 부품의 세정 및 코팅 분야의 첨단 기술력을 소개했습니다. 특히, 이번 전시 기간 동안 코미코는 전 세계의 고객사, 파트너사들과 심도 있는 기술 교..

Semiconductor manufacturing is a sequence of ultra-precise processes where even a single particle can lead to critical device failure. The water used in these processes is not ordinary water, but Ultrapure Water (UPW), managed to the level of an advanced engineered material.In everyday water, ions such as sodium (Na⁺), calcium (Ca²⁺), and chloride (Cl⁻) are dissolved. These ions exhibit electric..

반도체 공정은 미세한 입자 하나가 치명적인 불량으로 이어질 만큼 극도로 정밀한 작업의 연속입니다. 이 과정에서 사용하는 물은 단순한 물이 아니라, ‘초순수(UPW: Ultra Pure Water)’라는 첨단 소재 수준으로 관리됩니다. 우리가 일상에서 사용하는 물에는 나트륨, 칼슘, 염화이온 등 다양한 이온이 녹아 있으며, 이들은 전도성을 띠어 회로 손상이나 불량의 원인이 될 수 있습니다. 또한 특정 이온은 반도체 소자의 산화막에 침투해 전기적 특성을 불안정하게 만들고, 시간이 지나면 표면에 잔류해 파티클을 형성하기도 합니다. 더불어 식각이나 현상과 같은 공정에 사용하는 고순도 화학약품은 물 속 이온에 의해 반응성이 변질될 수 있어, 일반수나 순수로는 대응이 어렵습니다. 이에 따라 반도체 업계는 불순물을 ..

In the semiconductor industry, component cleaning is not merely about contaminant removal—it represents a mission-critical process step that directly impacts device yield and overall process reliability. For components highly sensitive to electrostatic discharge (ESD) or precision, high-value equipment parts, advanced cleaning methodologies are required to achieve complete decontamination withou..

반도체 산업에서 부품의 세정은 단순한 오염 제거를 넘어 제품 수율과 공정 신뢰성을 좌우하는 핵심 요소입니다. 특히 정전기에 민감한 부품이나 고가의 정밀 장비 부품의 경우, 표면 손상 없이 오염을 완벽하게 제거할 수 있는 고도화된 세정 기술이 요구됩니다.이러한 까다로운 요구를 충족시키기 위해 활용되는 대표적인 기술로 CO₂ Blasting이 있습니다.■ CO₂ Blasting이란?CO₂ Blasting은 고체 이산화탄소(CO₂), 즉 드라이아이스 펠렛을 고압의 압축 공기와 함께 분사하여 오염 물질을 제거하는 건식 비접촉 세정 기술입니다. 드라이아이스 펠렛은 오염물과 모재 사이에 침투해 충격을 가하고, 동시에 승화를 통해 부피가 급격히 팽창하면서 박막이나 미세 입자 등을 효과적으로 분리·제거합니다.드라이아이..

In semiconductor manufacturing, even the slightest contamination can directly lead to product defects or yield loss. One of the key cleaning processes applied to address this challenge is Ultrasonic Cleaning, which demonstrates exceptional effectiveness in removing surface and internal contaminants, particularly from components with complex structures. ■ Definition and Principle of Ultrasonic Cl..