Semiconductor manufacturing continues to advance toward greater miniaturization and higher integration. In particular, in etching processes conducted at the sub-nanometer scale, the performance requirements for equipment components—such as plasma resistance, surface stability, and wear resistance—are becoming increasingly stringent.In this environment, PVD (Physical Vapor Deposition) coating tec..

반도체 공정은 미세화·고집적화를 향해 지속적으로 진화하고 있습니다. 특히 수 나노미터 수준에서 정밀하게 이루어지는 Etching(식각) 공정에서는 내플라즈마성, 표면 안정성, 내마모성 등 장비 부품에 요구되는 조건이 점점 더 까다로워지고 있습니다. 이러한 환경 속에서 반도체 장비 부품에 대한 PVD(Physical Vapor Deposition, 물리적 기상 증착) Coating 기술은 고경도, 정밀 표면 조절력을 갖춘 고기능 코팅 솔루션으로 각광받고 있습니다.이번 글에서는 PVD Coating의 특징과 구현 과정에 대해서 자세히 알아보겠습니다.■ PVD Coating 이란?PVD Coating (Physical Vapor Deposition, 물리적 기상 증착)은 고체 상태의 재료를 진공 상태에서 증..